係列直流磁控濺射電（diàn）源的用途和特點

　　 MSD係列（liè）直流磁控濺射電（diàn）源
　　主要用途：
　　直流磁控濺射用於鍍（dù）製各（gè）種金屬（shǔ）
　　主要特點：
　　采用先進的電流型開關電源技術，減小輸出儲能元件，同時提高了抑製打火及重啟速度（dù），應用在鋁靶鍍膜優勢更為明顯。
　　具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式相對（duì）於傳統的（de）恒流模式，更能保證鍍膜工藝的重複性。
　　具有理想的電壓陡降特性，自動識別偽打火現象，充（chōng）分滿足磁控濺射工藝過程的連（lián）續性。
　　主要參（cān）數可（kě）大範圍調節
　　可選擇手（shǒu）動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
　　標簽：中頻磁（cí）控濺射電源