為大家介紹真空鍍膜應用的主要（yào）幾種方法

真空鍍膜應用（yòng），簡單地理解就是在真空環境下（xià），利用蒸鍍（dù）、濺射以及隨後凝結的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或（huò）者是覆蓋層。相對於傳統鍍膜方式（shì），真空（kōng）鍍膜（mó）應用屬於一種幹式鍍膜，它的主要方法包括以下幾種：
　　真空蒸鍍
　　其原理是在真空條件（jiàn）下，用蒸發器加（jiā）熱帶蒸發物（wù）質，使（shǐ）其氣化或升華，蒸發（fā）離子流直接射向基片，並在基片上沉（chén）積（jī）析出固態薄膜的技術。
　　濺（jiàn）射鍍膜（mó）
　　濺射鍍膜（mó）是真空條件下，在陰極接（jiē）上2000V高壓電，激發輝（huī）光放電（diàn），帶正電（diàn）的氬離子撞擊陰極，使其射出原子（zǐ），濺（jiàn）射出的原子通過惰（duò）性氣氛沉積到基片上形成膜層。
　　離（lí）子鍍膜
　　即幹式螺杆真空泵（bèng）廠家已經介紹過（guò）的真空離子鍍膜。它是在上麵兩種真空鍍膜技術基（jī）礎上發展而來（lái）的，因此兼（jiān）有兩者的工藝特點。在真空條件下，利用（yòng）氣（qì）體放電使工作氣體（tǐ）或被蒸發（fā）物（wù）質（膜材）部分離化，並在離子轟擊下，將蒸發（fā）物或其反應物沉積在基片表麵。在膜的形成過程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，十分（fèn）清潔。
　　真空卷繞鍍膜
　　真空卷繞（rào）鍍膜是一（yī）種利（lì）用物理氣相沉積的方法在柔性基體上連續鍍膜（mó）的技術，以實（shí）現（xiàn）柔性基體的一些功能性（xìng）、裝飾性屬性。
　　標簽;真空鍍膜電源