關於真空鍍膜你了解多少呢？

1、真空蒸發鍍膜法

　　真空蒸（zhēng）發法的原理（lǐ）是：在真空條件下，用蒸發源加熱蒸發材料，使之蒸發（fā）或升華進入氣相，氣相粒子（zǐ）流（liú）直接射向基片上沉積或結晶形成固態薄膜；由於（yú）環境是真空，因此，無論是金屬還是非金屬，在這種情況下蒸發要比常壓下容易得多。真空蒸發鍍膜是發（fā）展較早的鍍膜技術，其特（tè）點是：設（shè）備相對簡單，沉積速率快，膜層純度高，製膜材料及被鍍件材料範圍（wéi）很廣（guǎng），鍍膜過程（chéng）可以實現連續化，應用相當廣泛。按蒸發源的不同，主要分為：電阻加熱蒸發、電子束蒸發、電弧蒸發和激光蒸（zhēng）發等。

　　1.1 電阻加熱蒸發法

　　電阻加熱蒸發法就是采用鎢（wū）、鉬等高熔點金屬，做成（chéng）適當形狀的蒸發源，其上裝入待蒸發材料，讓電流（liú）通過（guò），對蒸（zhēng）發（fā）材（cái）料進行直接加熱蒸發，或者把待蒸（zhēng）發材料放入坩鍋中進行（háng）間接（jiē）加熱（rè）蒸發。利用電阻加（jiā）熱器加熱蒸發的鍍膜設備（bèi）構造簡單、造價便宜、使用可靠，可用於熔點不太高的（de）材料的蒸發（fā）鍍膜，尤其適用於對膜（mó）層質量要求（qiú）不太高的大批量的生產中。目前在鍍鋁製品的生產（chǎn）中仍然大量使用著電阻加熱蒸發的工藝。電阻加熱方式的缺（quē）點是：加熱所能達到的高溫度有（yǒu）限，加熱器的壽命也較短（duǎn）。近年來，為了提高加熱器的壽命，國（guó）內外已采用壽命較長的氮化（huà）硼合成的導電陶瓷材料作為加熱器（qì）。

　　1.2 電子束蒸發法

　　電子束蒸發法是將蒸發材料放入水冷銅坩鍋中，直接利用電子束（shù）加熱（rè），使蒸發材料氣化蒸發後凝結在（zài）基板表（biǎo）麵形成膜，是真空蒸發鍍膜技術中（zhōng）的一種重要的加（jiā）熱方法和發展方向。電子束蒸發克服了一（yī）般電阻加熱蒸發的許多缺點，特別適合製作熔點薄（báo）膜材料和高純薄膜材料。

　　1.3 激光蒸發法

　　采用激光束蒸發源的蒸鍍技術是一種理想的薄膜（mó）製備方法。這是由於激光器是可以安裝在真空室之（zhī）外，這樣不但簡化了真空室內部的空間布置，減少了（le）加熱源的放氣，而且還可完全避（bì）免了（le）蒸發氣對被鍍材料的汙染，達到了膜層純潔的目的。此外（wài），激光加熱可以達到極高的溫度，利（lì）用（yòng）激光束加熱能夠對某些合金或化合物進行快速蒸發。這對於保證（zhèng）膜的成分，防止膜的分餾或分（fèn）解也是（shì）極其有用的。激光蒸發鍍的缺點是製作大（dà）功率連續式激光器（qì）的成本較高，所以它的（de）應用範圍有一定的限製（zhì），導致其在工業中的廣泛應用有一定的限（xiàn）製。

　　2、真空濺（jiàn）射法

　　真空濺射法是物理氣相沉積（jī）法中的後起之秀。隨著高純（chún）靶材料和高純氣體製備技術（shù）的發展，濺射鍍膜技術飛速發展，在多元合（hé）金薄膜（mó）的製備方（fāng）麵（miàn）顯示出（chū）獨到之處。其原理為：稀薄的空氣在異常輝光（guāng）放（fàng）電（diàn）產生的等（děng）離子體在電場的作用（yòng）下，對陰極靶材（cái）料表麵進行（háng）轟擊，把靶材料表麵的分子、原子、離子及電子等濺射出（chū）來，被濺射出來的粒子帶有一定的動能，沿一定的（de）方（fāng）法射向基體表麵，在基體表麵形成鍍層。特點為：鍍膜層與（yǔ）基材的結合力強；鍍膜層致密、均勻；設備簡單，操（cāo）作方便（biàn），容易控製。

　　主要的濺射方法有直流濺射、射（shè）頻濺射、磁控濺射等。目前應用（yòng）較多的是磁控濺射法。

　　標簽：真（zhēn）空鍍膜電源