淺談一下真空鍍膜設備的製作方法

真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍:蒸發鍍膜，通過（guò）加（jiā）熱蒸發某種物質使其沉積在固體表麵；濺射鍍膜用（yòng）高能粒子轟擊固體表麵時能使固體（tǐ）表麵的（de）粒子（zǐ）獲得能量並逸出表麵，沉積在基片上；離子鍍蒸發物質的分子被電子碰撞（zhuàng）電離後以離子沉積在固體表麵。這三種形式的真空鍍膜技（jì）術都（dōu）需要一種快速冷卻裝置來輔助真空鍍膜工程。

　　真空設備由於在鍍膜過程（chéng）中工件處於密閉的（de）真空環境中，但產品（pǐn）工藝及性能卻喪失了很多（duō），現有的真空鍍膜設備（bèi），也有冷卻裝置，但其冷卻效果不是很理想。

　　不（bú）能（néng）滿足人們的需要，為彌（mí）補現有技術不足，提供真（zhēn）空鍍膜設備手套箱蒸鍍一體機（jī），本係統由（yóu）真空鍍（dù）膜係統和（hé）手套箱係統集成（chéng）而成，可在高真空蒸鍍（dù）腔室中完成薄膜蒸鍍，並在手套箱（xiāng）高純惰性氣體氛圍（wéi）下進行樣品的存放、製備以（yǐ）及蒸鍍（dù）後樣品的檢測。能保證鍍（dù）膜產品工藝及性能（néng）質量的要求而設置的快速冷卻係統，實現自動控製快速冷（lěng）卻的目的。

　　蒸發鍍膜與手套箱組合，實現蒸鍍、封裝、測試（shì）等工藝（yì）全封閉製作，使整個薄膜生長和器件製備過程高度集成在一個完整（zhěng）的可控環境氛（fēn）圍的係統中，消除（chú）有機大麵積電路製備過程中大氣環境中不穩定因素（sù）影響，保障了高性能、大麵積有（yǒu）機（jī）光電器件（jiàn）和電（diàn）路的製備。

　　標簽：真空鍍膜電（diàn）源