真空離子鍍膜設備（bèi）的構造有哪些要求

真空離子鍍膜（mó）設備是通過對熱量以及來自等離子體的能量的利用，在真空環境（jìng）中將金屬蒸發，使其與反應（yīng）性氣體結合，然後將（jiāng）其用（yòng）於轟擊基材，終成膜。比之傳統的浸泡鍍膜，它有優越的耐磨性和粘附性。

　　對於壓（yā）力在10??Pa~10??Pa範圍內的真空離子鍍膜設備的設（shè）計結構（gòu）有以下要求：

　　1、電（diàn）阻值。根據GB/T 11164一99標準中的規定，來（lái）決定真空（kōng）室所接不同電位間的（de）絕緣電阻值的大小。

　　2、離（lí）子轟擊電源。離子鍍膜機通常具有基材負偏壓（yā）和離子轟擊電（diàn）源，離子轟擊（jī）電源應具備將非正常放電有效抑製的功能，以（yǐ）達到穩（wěn）定的工作狀態。

　　3、基材架（jià）。基材架與真空（kōng）室體之間（jiān）應（yīng）有絕緣設計，基材架的設計要考慮基材鍍製的膜層均勻（yún）問題。

　　4、加熱係統。加熱係統需要合理的布置（zhì），加（jiā）熱器結構布局（jú）要（yào）考慮到基材的溫升均勻問題。

　　5、沉積源。設（shè）計（jì）離（lí）子（zǐ）鍍沉積源要充分考慮鍍膜過程（chéng）中的離化率問題，將（jiāng）離化（huà）率盡可能地提高，同時提高了靶材利用（yòng）率。沉積源的功率要合（hé）理匹配，沉積源在真空室體的位置同樣需要合理的布置。

　　6、觀察窗結構。真空鍍膜室設有觀（guān）察窗，在此觀察窗上設置擋板。要求觀察窗可觀察到沉積源以及其他關鍵部位（wèi）的工作狀態。

　　7、蒸汽與油的捕集。若設備使用的抽氣係統是以擴散泵為主泵，則要合理設置油（yóu）蒸氣捕集阱。

　　8、屏蔽與（yǔ）測量裝置。真空測量規管安裝於（yú）低真（zhēn）空和（hé）高真空管道上及真空鍍膜室上，可分別各部位的真空度（dù）進（jìn）行測量。若電場幹擾了測量，應安裝電場屏蔽裝置（zhì）於測量口處，用以阻截該電場。

　　9、密封裝置的結構。根據（jù）GB/T 6070標準中的規定，來決定設備中的真空管道、密封圈、密封法蘭等裝置的結構型式（shì）。

　　標簽：多弧鍍膜電源