真空鍍膜係統主要構成部分你知道幾（jǐ）個？

      1、真空室

　　塗層設備主要有連續塗層（céng）生產線及單室塗層機兩種形（xíng）式，不鏽鋼材料製造、氬弧焊接、表麵進行化學拋（pāo）光處理，真空室組件上焊有各種規格的法（fǎ）蘭接口。

　　2、真空（kōng）獲（huò）得（dé）部分

　　在（zài）真空技（jì）術（shù）中，真（zhēn）空獲得部分是重要組成部（bù）分。真空的獲得（dé）不是一種真空設備和方法所能達到的，必（bì）須將幾種泵聯合使用，如機械泵、羅茨泵（bèng）、分子泵係統等。

　　3、真空測（cè）量部分

　　真空係統的真空測（cè）量部分，就是要對真空室內的壓強進行測量。像真空泵一樣，沒有一種真空計能測量整個真空範圍，人（rén）們於是按不同的原理和要求製成了（le）許多種類的真空計。如熱偶計，電離計，皮拉尼計等。

　　4、電（diàn）源供給部分（fèn）

　　靶電源主要（yào）有直流電源、中頻電源、脈衝電（diàn）源、射頻電源(RF)，常見的電源廠商有AE,ADL,霍廷格等。

　　5、工藝氣體輸（shū）入係統（tǒng）

　　工藝氣體，如氬氣(Ar)、氪氣(Kr)、氮氣(N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氫氣(H2)、氧氣(O2)等，一般均由氣瓶供應，經氣體減壓閥、氣體截止閥、管路、氣體流量計、電（diàn）磁閥、壓電閥，然後通入真空室。這種氣體輸入係統的優（yōu）點是，管路簡捷、明（míng）快，維修或更換氣（qì）瓶容（róng）易。各塗層機之間互不影響。也有多台塗層機共用一組氣瓶的情（qíng）況（kuàng），這種情況在（zài）一些規模較大的塗層車間可（kě）能有機會看到。它的好處是，減少（shǎo）氣瓶（píng）占用量，統一規劃、統一布局。缺點是，由於接頭增多，使漏氣機（jī）會增（zēng）加。而且（qiě），各塗層機之間會互相幹擾，一台塗層機的管路漏氣，有可（kě）能會影響到其他塗層機的產品質量。此外，更換氣瓶時，必須保證所有機台都處於非用氣狀態。

　　6、機械傳動部分

　　塗層要求周邊必須厚度均勻一致，因此，在塗層過程中須有三個轉動量才能滿足要求。即在（zài）要求大工件台轉動(I)的同時，小的工件承載台也轉動( II),並且工（gōng）件本身還能同時自轉(III)。在機械設計上，一般是（shì）在大工件轉（zhuǎn）盤底部中央（yāng）為一大的主（zhǔ）動（dòng）齒輪，周圍是一些小的（de）星行輪與之齧合，如果要實現（xiàn）產品自轉的話，一般用撥叉撥動工件自轉（zhuǎn）。

　　7、加熱及測溫部分

　　塗（tú）層設備一般有不同位置的加熱器，用熱電偶測控溫度。但（dàn）是，由於熱電偶（ǒu）裝夾的（de）位置與工件位置不同（tóng），溫度（dù）讀數不可能（néng）是（shì）工件的真實溫度。要想測得（dé）工件的真實溫度，有很多方法，可以在工件上裝高溫試紙或熱偶計。

　　8、離子蒸發及（jí）濺射源

　　多弧鍍的蒸發源一般為圓餅形，俗稱圓餅靶，也有長方形的多弧靶。靶座中裝（zhuāng）有磁鐵，通過前後移動磁鐵，改變磁場強度，可調整弧斑（bān）移動速度及（jí）軌跡。為了降低靶及（jí）靶座的溫度，要給靶座不斷通入冷卻水。為了（le）保證靶與靶座之間的高導電、導熱性（xìng），還可以在靶與靶座之間加錫墊片。磁（cí）控（kòng）濺射鍍（dù）膜一般（bān）采用長方形或圓柱形濺射陰極。

　　9、水（shuǐ）冷係統（tǒng）

　　一般由冷水（shuǐ）塔，冰水機，水泵等組成。

　　10、工控係統

　　標簽：多弧鍍膜（mó）電源