真空鍍膜設備（bèi）由哪些部分構成

真空鍍膜機是目前製作真空條件應用為廣泛的設備，目前生活中使用到的物品都離不開（kāi）真空鍍膜行業。
　　但是許多（duō）人都不知道真空鍍膜的主要構成（chéng）部分，接下來（lái）讓麻豆免费视频（men）一起來認識一下真空鍍膜機的主要構（gòu）成部分。其（qí）中有：真空室、真空獲（huò）得部分、真空測量部分、電源供給（gěi）部分、工藝氣體輸入係統、機械（xiè）傳動部分、加熱（rè）及測溫（wēn）部分、離子（zǐ）蒸發及濺射（shè）源、水冷係統。
　　1、真空室（shì）
　　塗層設備主要有連續塗層生產線及（jí）單室塗層機兩（liǎng）種形式，不（bú）鏽鋼材料製造、氬弧焊接（jiē）、表麵進行化學（xué）拋光處理，真空室組件上焊有各種規格的法蘭接口。
　　2.真（zhēn）空獲得（dé）部分
　　在真空技術中，真空獲得部分（fèn）是重要組成部分。真空的獲得（dé）不是一種真（zhēn）空設備和方法所能達到的，必須將幾種（zhǒng）泵聯（lián）合使用，如機（jī）械泵、羅茨泵、分子泵係統等。
　　3.真空測量部分
　　真空係統的真空測量部分，就是要對真空室內的壓強進行測量。像真空泵一樣，沒有一（yī）種真空計能測量整個真空範圍，人們於是（shì）按（àn）不同的原理和要求（qiú）製成了許多種類的真（zhēn）空計（jì）。如熱偶（ǒu）計，電離計，皮拉尼計等等。
　　4.電源供給部分
　　靶電源主要有直流電源、中頻（pín）電（diàn）源（yuán）、脈衝電源、射頻電源(RF)，常見的電源廠商有AE,ADL,霍廷格等
　　5.工藝氣體輸入係統
　　工藝氣體，如氬氣(Ar)、氪氣(Kr)、氮氣(N2)、乙炔(C2H2)、甲烷（wán）(CH4)、氫氣(H2)、氧氣(O2)等，一般均由氣瓶供應（yīng），經氣體減壓閥、氣體截止閥、管路、氣體流（liú）量計、電磁閥、壓（yā）電閥，然（rán）後（hòu）通入真（zhēn）空室。這種氣體輸入（rù）係統（tǒng）的優點是，管路簡捷、明快，維修或更換氣瓶容易。各塗層機之間互不影響。也有多台塗層機共（gòng）用一（yī）組氣瓶的情況，這種情況在一些（xiē）規模較（jiào）大的塗層車間可（kě）能有機會（huì）看到。它的好處是，減少氣瓶占用量，統一規劃、統一（yī）布局。缺（quē）點是，由於接頭增多，使漏氣機會增加（jiā）。而且，各塗層機之間會互相幹擾，一台塗層機的管路（lù）漏氣，有可能會影響到其他塗層機（jī）的產品質（zhì）量。此外，更換氣瓶時，必須保（bǎo）證所有（yǒu）機台都處於（yú）非用氣狀態。
　　6.機械傳動部分
　　塗層要求周邊必須厚度均勻一致，因此，在塗層過程中須有三（sān）個轉動量才能滿足要求。即在要求大工件台轉動(I)的同時，小的工件承載台也轉動( II),並且工件本身還能同時自轉(III)。在機械設計上，一般是在大工（gōng）件（jiàn）轉盤底部中央為一大的主動齒輪，周圍是一些小的星行輪與之齧合，如果要實現產品自轉的話，一（yī）般用撥叉撥動工件自轉。
　　7.加熱及測（cè）溫部分
　　塗層設備一般有不同（tóng）位置的加熱器，用熱電偶測控溫度。但是，由於（yú）熱電偶裝夾的位置與工（gōng）件位置不同，溫（wēn）度讀數不可能是工件的真實溫度。要想測得工件的真實溫（wēn）度，有很多方法，可以在工件上裝高溫試紙或熱偶計。
　　8.離子（zǐ）蒸發及濺射源（yuán）
　　多弧鍍的蒸發源一般為圓餅形，俗稱圓餅靶，也有長方（fāng）形的多弧靶。靶座中裝有磁鐵，通過前後（hòu）移動磁鐵，改變磁場強度，可調整弧斑移動速度及（jí）軌跡。為了降低靶及靶座的溫度，要給靶座不斷通入冷卻水。為了保證靶與靶座之間的高導電、導熱性，還可以在靶與靶座之間加錫（xī）墊片（piàn）。
　　9.水冷係統
　　一般由冷（lěng）水塔，冰水機，水（shuǐ）泵等組成。
　　真空鍍膜機都（dōu）離不開以上（shàng）的任何一個零件，有這些零件一台真空鍍膜（mó）機才算（suàn）完整，才能正（zhèng）常的運行。
　　標簽;真空鍍膜電源