詳（xiáng）細為大家介（jiè）紹真空鍍膜應用的主要幾種方法

真空鍍膜（mó）應用（yòng）是真空應用中的一個大分（fèn）支，在（zài）光學、電子學、理化儀器、包裝（zhuāng）、機械以及表麵處理技（jì）術等眾多方麵有著十（shí）分廣泛的應用。為了讓大家更（gèng）詳細的了（le）解真空鍍膜的（de）應用

　　真空鍍膜應用，簡單地（dì）理解就是在真空環境下，利（lì）用（yòng）蒸（zhēng）鍍、濺射以及隨後凝結的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等（děng）物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對於傳統鍍膜方式，真空鍍膜應用屬於一種幹式鍍膜，它的主要方（fāng）法包括以下幾種：

　　真空蒸鍍

　　其原理是在真空條件下，用蒸發器（qì）加熱帶蒸發物質，使其氣化或（huò）升華，蒸發離子流直接射向基片，並在基片上沉積析（xī）出固態薄膜的技術。

　　濺射鍍膜

　　濺射（shè）鍍膜是真空條件下（xià），在陰極接上2000V高壓電，激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。

　　離子（zǐ）鍍（dù）膜

　　即幹式（shì）螺杆真空泵（bèng）廠家已經介紹過的真空離（lí）子鍍膜。它是在上麵兩種真空鍍膜技術基礎上發展而來的，因此兼有（yǒu）兩者的工（gōng）藝特（tè）點。在真空條件下，利用氣體放（fàng）電使工作氣體或被蒸發物質（膜材）部分離化，並在離子轟擊下，將蒸發物或其反應（yīng）物沉（chén）積在基片表麵（miàn）。在膜的形成過程中，基片始（shǐ）終受到高能粒子（zǐ）的轟擊，十分清潔。

　　真空（kōng）卷繞鍍膜

　　真空卷繞鍍膜是一（yī）種利用物理氣相（xiàng）沉積的方法在（zài）柔性基體上連續鍍膜的（de）技（jì）術，以實現柔性基體的一（yī）些功能性、裝飾（shì）性屬性。

　　標簽：真空鍍膜電源