為大（dà）家介紹真空鍍膜應用的主要幾種方法

真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支（zhī），在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表麵處理技術等（děng）眾多方麵有著十分廣泛的應用。

　　真空蒸鍍

　　其原理是在真空條（tiáo）件下，用蒸發器加熱帶蒸發物質，使其氣化或升（shēng）華（huá），蒸（zhēng）發離子流直接射（shè）向基片，並在基片上沉積析出固態（tài）薄膜的技術。

　　濺射鍍膜

　　濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激（jī）發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺（jiàn）射出的原子通過惰性氣氛沉積到（dào）基片上形成膜層。

　　離子鍍（dù）膜

　　即幹式螺杆真空泵廠家已經介紹過的真空離子鍍膜。它是在上麵兩種真空鍍膜技術基礎上發展而來的，因此兼（jiān）有（yǒu）兩者的工藝特點（diǎn）。在真空條件下，利用氣體放電使（shǐ）工作氣體或被蒸發（fā）物質（膜材）部分離化，並在離子轟擊（jī）下，將蒸發物（wù）或其反應物沉積在基片表麵。在膜的形成過程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，十分清潔。

　　真空卷繞鍍膜

　　真空卷繞鍍膜是一種利用物理（lǐ）氣相沉積的方法在（zài）柔性基體（tǐ）上連續鍍膜的（de）技術，以實（shí）現柔性基體的一些功（gōng）能性、裝飾性屬性。

　　標（biāo）簽（qiān）：真空鍍膜電源