離子鍍膜原理及種（zhǒng）類有哪些呢？

離子鍍是真空室中，利用（yòng）氣體放電或被蒸發物質（zhì）部分離（lí）化，在（zài）氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的（de）同時，將（jiāng）蒸發物或反應物沉積在基片上。離子鍍把 輝光放電現象、 等離子（zǐ）體技術和真（zhēn）空蒸（zhēng）發三者有機結合起來，不僅能明顯地改進了膜質量（liàng），而且還擴大了薄膜的（de）應用範（fàn）圍。其優（yōu）點是薄膜 附著力強，繞射性好，膜材（cái）廣泛等（děng）。D.M.首次提（tí）出離子鍍原（yuán）理（lǐ），起工作過程是：
　　先將真空室抽（chōu）至4×10（-3）帕以上的 真空度，再接通 高壓電（diàn）源（yuán），在蒸發源與基片之間建立一個（gè）低壓氣體放電的 低溫等離子區。基片（piàn）電極（jí）接上5KV直流負高壓，從而形成（chéng）輝光放電陰（yīn）極。輝光放電去（qù）產生的惰性氣體離子進入陰極（jí）暗區被電（diàn）場加（jiā）速並（bìng）轟擊基片表麵，對其進行清洗。然後計入鍍膜過程，加熱使鍍料氣化，起（qǐ）原子進（jìn）入等離子區，與惰（duò）性氣體離子及電子發生碰撞，少部（bù）分產生離化。離化後的例（lì）子及氣體離子以較高能量轟擊 鍍層表麵，致（zhì）使膜層質量得到改善。
　　離子鍍種類很多，蒸發遠（yuǎn）加（jiā）熱方式有電阻加熱、 電子束加熱、等離子電子束加熱、高頻感應加熱等
　　然而多弧離子鍍與一般（bān）的離子鍍有著很大的區別。多（duō）弧離子（zǐ）鍍采用的是（shì）弧光放電，而並不是傳統離子鍍的輝光放電進行沉積。簡單的說，多弧離子鍍的原理（lǐ）就是把陰極靶作為（wéi）蒸發源，通過靶與陽極殼體之間的弧光放電，使靶材（cái）蒸發，從而在空（kōng）間中形成 等離子體，對基體進行沉積。
　　標簽：多弧鍍（dù）膜電源