簡述（shù）關於離子鍍弧源在鍍膜的磁場的作（zuò）用是什麽呢？

　針對幾（jǐ）種應用於工具鍍膜的磁場控製的電弧離子鍍弧源，分析了其結構、工作原理以及（jí）弧斑運動、放電特性；比較了（le）不同磁場輔助受控弧源的靶結構及（jí）磁（cí）場位形，並討論了（le）對弧（hú）斑運動、放電及（jí）鍍膜工藝（yì）的影響；對磁場控製的電弧離（lí）子鍍弧源的發展進行了展望。

　　提（tí）高工具（jù）、模具（jù）的加工質量和使用壽命一直是人（rén）們不斷探（tàn）索的課題。電（diàn）弧離子鍍技術是一種工模具（jù）材料表麵改性技術，具有離化率高、可低溫沉（chén）積、膜層質量好以及沉積速率快等其他鍍膜方（fāng）式所不具備的（de）優勢，已在現代工具以及各種模具的表麵防護（hù）取得了理想的應用效果。但是，電弧放電導致的大顆粒存在限製了工模具塗層技術的進一步應用，也成為（wéi）後（hòu）期電弧離子鍍技術發展的主要論題。

　　離（lí）子鍍弧（hú）源是電弧等離子體放電的源頭，是（shì）離子鍍（dù）技（jì）術的（de）關鍵部件。電（diàn）弧離子鍍采用的弧源是冷陰極弧源，這（zhè）種弧源中電弧（hú）的行為被陰極表麵許多快速遊動、高度明亮（liàng）的陰極斑點所控製。在發（fā）展和完善電弧離子鍍技術的過程中，對電（diàn）弧（hú）陰極斑點運動的有效控製（zhì）至關重（chóng）要（yào），因為這決定了電弧（hú）放電的穩定性、陰極靶材的有效利用、大顆粒的去除（chú）、薄膜質量的改善等諸多關鍵問題的解決。國內外一直致力於這方麵的工作，研（yán）究熱點主要集中在（zài）磁（cí）場控製的弧源設計上。由於真空電弧的物理特性，外（wài）加電磁場（chǎng）是控製弧斑運動的有效方法，目前（qián）所有（yǒu）的磁場設計都是考慮在靶麵形成一定的磁場位形，利（lì）用銳角法則限（xiàn）製弧斑的運動（dòng）軌跡，利用橫向（xiàng）分量提高弧斑的運動速度。

　　理想的磁場設計體現為：一方麵盡可能擴（kuò）大磁（cí）場橫向分量的麵積與強（qiáng）度，另一方麵樶大程度的控製（zhì）和限（xiàn）製弧斑的（de）運動。由於工具鍍膜持續時間較長，對膜層的性能要求較高，工業應用的離（lí）子鍍弧源應具（jù）備以下幾點特性：(1)放電穩定，不經常滅弧；(2)弧（hú）斑運動約束合理，不跑弧；(3)靶（bǎ）材利（lì）用（yòng）率高；(4)弧斑細膩，放電功率密度小，大顆粒少；(5)等（děng）離子體密度以（yǐ）及離化率高，向工件輸運的等離子體（tǐ）通（tōng）量足夠。

標簽：離子源電源