電弧蒸發源（yuán）和多弧離（lí）子鍍膜機的優（yōu）勢有哪些

多弧離子鍍膜機的核心技術是它的電弧蒸發源，多（duō）弧離子鍍膜機的蒸發源是一種比較特（tè）殊的（de）冷陰極電弧放電的自蒸發、自電離式的一種固體（tǐ）型蒸發（fā）源。

　　所謂多弧離（lí）子鍍膜機就是用多個電弧（hú）蒸發源為核心的一種離子鍍膜設備，通常又叫多弧（hú）鍍膜、弧鍍、電弧鍍膜等。相（xiàng）較於（yú）其他鍍膜工藝，它具備的優勢有：

　　機械整體（tǐ）簡單、設備生產效率高、工作周期短、適合大批量的工業化生產。

　　較大的鍍膜空間。 電弧蒸發源為固（gù）態，可靈活放置（zhì），所以工件（jiàn）在裝卡更換（huàn）時更加簡單，無需附加加熱（rè）器使用。

　　工藝範圍廣。適合在較高真空或較低（dī）環境溫度（200?C）下（xià）做反應（yīng）鍍、離子鍍。

　　具備優異的膜性能。工件的轟擊加熱（rè）、清潔和沉積交由離化金屬等離子體轟擊完成，實現“一（yī）弧三用”，且膜層結構致密性高，膜層與鍍件牢固（gù）結合。

　　標（biāo）簽：多弧電源線路板（bǎn）