為大家（jiā）介紹真空鍍膜應用的主要幾種方法

      真空鍍膜應用，簡單地（dì）理解就是在真空環境下，利用蒸鍍、濺射以及隨後凝結的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體（tǐ）以及（jí）塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對於傳統鍍（dù）膜（mó）方式，真空鍍膜應用屬於一種幹式鍍膜，它的（de）主要方（fāng）法包括以下幾種：

　　真空蒸鍍

　　其原理是在真（zhēn）空條件下，用蒸（zhēng）發器（qì）加（jiā）熱帶蒸發物質，使其氣化（huà）或升華，蒸發離子流直接射向基片，並在基片上沉積析出（chū）固態薄膜的技術。

　　濺射鍍膜

　　濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上（shàng）2000V高壓電，激（jī）發輝光放電，帶正電的氬（yà）離子撞擊陰極，使其（qí）射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛（fēn）沉積到基片上形（xíng）成膜層。

　　離子鍍膜

　　即幹式（shì）螺杆真（zhēn）空泵廠家已經介紹過（guò）的真空離子（zǐ）鍍膜。它是在上麵兩種真空鍍膜（mó）技術基礎上發展（zhǎn）而來的，因此兼有兩者的工藝特點。在（zài）真空（kōng）條件下，利用氣體放（fàng）電使工作氣（qì）體或被蒸發物質（膜材）部分離化，並在離子轟擊下，將蒸發物或（huò）其反應物沉積在基片表麵。在膜的形成過程中，基片始終受到高能粒子的轟（hōng）擊（jī），十分清潔。

　　真空卷繞鍍膜

　　真空卷繞鍍膜是一種利用物理氣（qì）相沉（chén）積的方法在柔（róu）性基體上連續鍍膜的技術，以實現柔性基體的一些功能（néng）性、裝飾性屬性。

　　標簽:真空鍍膜電（diàn）源