淺談一下離子鍍膜原理及種類（lèi）有哪些？

多弧電（diàn）源離子鍍是真空室中，利用氣體放電（diàn）或被蒸發（fā）物（wù）質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用（yòng）的同（tóng）時，將蒸發物或反應（yīng）物沉積在基片上。
　　離子鍍（dù）把 輝光（guāng）放電現象、 等離（lí）子體技術和真空蒸發三者有機結合起來，不僅能明顯地改進了膜質量（liàng），而且（qiě）還（hái）擴大了薄膜的應用範圍。其優點是薄膜（mó） 附著力強（qiáng），繞射性好，膜材廣泛等。D.M.首（shǒu）次（cì）提出離子鍍原理，起工作過（guò）程是（shì）：
　　先將真空室抽至4×10（-3）帕以上的 真空度（dù），再（zài）接通 高壓電源，在蒸發源與（yǔ）基片之間建立一個低壓氣體放（fàng）電的（de） 低溫等離子（zǐ）區。基片電極接上5KV直（zhí）流負（fù）高壓，從而（ér）形成輝光（guāng）放電（diàn）陰（yīn）極。輝光放電去產生的惰性氣體離子進入陰極暗區被電（diàn）場加速並轟擊基片表麵（miàn），對其進行清洗。然後計（jì）入鍍膜過程，加熱使鍍料（liào）氣化，起（qǐ）原子進入等離子（zǐ）區，與惰性氣體離子及電子發生（shēng）碰撞，少部分產生離化。離化後的例子及氣體離（lí）子以較高能量轟擊 鍍層表麵，致使膜層質（zhì）量得到改善。
　　離子鍍種類很多，蒸發遠加熱方式有電阻加熱、 電子束（shù）加熱、等離子電子束加熱、高頻感應（yīng）加熱等
　　然而多弧離子鍍與一般的離子鍍有著很（hěn）大的區別。多弧離子（zǐ）鍍采用的是弧光放電，而並不是（shì）傳統離子鍍的輝（huī）光放電進行沉積。簡單的說，多弧離子鍍的原理就是把（bǎ）陰極靶作為蒸發源，通過靶與陽極殼（ké）體（tǐ）之（zhī）間（jiān）的弧光放電，使靶（bǎ）材蒸發（fā），從而在空間中（zhōng）形（xíng）成 等（děng）離子體，對基體進行沉積。
　　標簽（qiān）：多弧（hú）電源