簡述關於（yú）離子鍍弧源在鍍膜中的磁場作用是什麽呢？

針對（duì）幾種應用於工具鍍膜的磁場（chǎng）控製的電弧離子鍍弧源（yuán），分析了其結構、工作原理以（yǐ）及弧斑運動（dòng）、放電特性；比較了不同磁場（chǎng）輔助受控弧源的靶結構（gòu）及磁（cí）場位形，並（bìng）討論了對弧斑運動、放電及鍍膜（mó）工藝的影響；對磁（cí）場控製（zhì）的電（diàn）弧離子鍍弧源的發展進（jìn）行了展望。

離子（zǐ）源電源：提高工具、模具的加工質量和使用壽（shòu）命一直是人們不斷探索的課（kè）題。電弧離子鍍技（jì）術是一（yī）種工模具材料表麵改性技術，具有離化率高（gāo）、可低溫沉積（jī）、膜層質量（liàng）好以及沉積速率快等其他鍍膜方式所不具（jù）備的優勢，已在現代工具以及各種模具的表麵防護取得（dé）了理想的應用（yòng）效果。但是，電弧放電導致的大顆粒存在限（xiàn）製了工模具塗層技術的進一（yī）步應用，也（yě）成為後期電弧離子鍍技術發展的主（zhǔ）要論題。

　　離子鍍弧源是電弧等（děng）離（lí）子（zǐ）體放電的（de）源頭，是離子鍍技術（shù）的關鍵部件。電弧離子鍍采用的弧源（yuán）是冷陰極弧源，這種弧源中（zhōng）電弧的行為被陰極表麵（miàn）許多快速遊動、高（gāo）度明亮的陰極（jí）斑點所控製。在發展和完善（shàn）電弧離子鍍技術的過（guò）程（chéng）中，對電弧陰極斑點運動的有效控製至關重要，因為這決定了電弧放電的穩定性（xìng）、陰（yīn）極靶材的有效利用、大顆粒的（de）去除（chú）、薄膜質量的改善等諸多關鍵問題的解決。國（guó）內外一直（zhí）致力於這方麵的工作，研究熱點主要集（jí）中在磁場控製的弧源設計上。由（yóu）於真空電弧的（de）物理特性，外加（jiā）電磁場是控製弧斑運動的（de）有效方法，目前所有的磁場設計都是考（kǎo）慮在靶麵形成一定的磁（cí）場位（wèi）形，利用銳角法則限製弧斑的運動軌跡，利（lì）用橫向分量提高弧斑的運動速度（dù）。

　　離子源（yuán）電源理想的磁場設（shè）計體現為：一方麵盡可（kě）能擴大磁場橫向（xiàng）分量的麵（miàn）積與強度，另一方麵樶大（dà）程度的控製和限製弧斑的運動。由於工具（jù）鍍（dù）膜持續（xù）時間較長，對膜層的性能要求較高，工業應用的離子鍍弧源應（yīng）具備以下幾點特性：(1)放電穩（wěn）定，不（bú）經常滅弧；(2)弧斑運動約束合理，不跑弧；(3)靶材（cái）利用（yòng）率高；(4)弧斑（bān）細膩，放電功率密度小，大顆粒少；(5)等離（lí）子（zǐ）體密（mì）度以及離化率高，向工件輸運的等離子體通量足夠。