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關於直流磁控濺射電源的主要用途講解

返回列表 來源: 發布日期:2020-04-22

(1)各種功能性薄(báo)膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜(mó)。例如,低溫沉積氮化矽減反射膜,以提高太陽能電池的光電轉換效率。

  (2)裝飾領域的應(yīng)用,如各種全(quán)反射膜及半透(tòu)明膜等(děng),如手機外(wài)殼(ké),鼠標等。

  (3) 在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術,主要應(yīng)用在化學(xué)氣相(xiàng)沉積(CVD)或金屬有機

  (4)化學氣相沉積(CVD)生長困難及不適用的(de)材料薄膜沉積,而且可以獲(huò)得大麵積非常均勻的薄膜。

  (5) 在光學領域:中頻閉合場(chǎng)非平衡磁(cí)控濺射技術也已在光(guāng)學薄膜(如增透膜)、低輻射玻璃和透明導電玻璃等方麵得到應用(yòng)。特別是透明導電玻璃廣泛應用於平板顯示器件(jiàn)、太陽能電池、微波與射頻屏蔽(bì)裝置與器件(jiàn)、傳感器等。

  (6)在(zài)機(jī)械加工(gōng)行業中,表麵功能膜、超硬膜,自(zì)潤滑薄膜的表麵沉積技術自問世以來得到長足發展(zhǎn),能(néng)有效的(de)提高表(biǎo)麵硬度(dù)、複合韌性(xìng)、耐磨損性和抗高溫化學穩定性能,從而大幅度地(dì)提高塗層產品的使用壽命。

  直流磁控濺射電源除上述已被大量應用的領域,還在高溫超(chāo)導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜(mó)、薄膜發光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方麵發揮重要作用。

標簽:直流磁控濺射電源

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